固溶时效处理后，细小的黑色沉淀在铬锆铜，晶界上密集分布，许多尺寸为几微米的细小黑色沉淀也分布在晶粒中。随着温度下降曲线接近铜侧，在400时溶解度仅为百分之0.03。此时，铜络合物颗粒沉淀在固溶体中。因此，体心立方结构的铬、密排六方结构的铬和面心立方结构的铜在常温下几乎不互溶，但铜和铬不能形成化合物，而铜和断层可以形成各种化合物相，铬和断层也可以形成各种化合物相。热处理后，铬锆铜基体为铜，析出相为铬相和铬金属间化合物。
 热处理后，铬锆铜的抗拉强度、屈服强度、强度和硬度都有所提高，而断裂伸长率有所降低。铬锆铜在固溶过程中形成过饱和固溶体。在时效过程中，两相和铜化合物从固溶体中分离出来，新相被分散和强化。分散在基体中的两相与基体形成相干关系。相干界面存在较大的失配，引起晶格畸变，增加相界面的弹性应变能，提高合金的强度、硬度和弹性。 
 铬锆铜热处理后的电导率比热处理前高。根据固溶多相电导理论，时效金属的电导率主要受固溶体基体的固溶度控制。在常温下，合金元素在铜中的溶解度很小。在时效过程中，几乎所有的合金元素都不断地从铜基体中析出，固溶体中溶质元素的含量逐渐减少，直至固溶体趋向于纯铜基体，从而提高了电导率。